国家知识产权局信息显示，昆明理工大学、昆明理工恒达制造研究院有限公司、昆明理工恒达科技股份有限公司申请一项名为“一种退火诱导NO3-插层Ni基LDH@FeOHSO4析氧催化电极的制备方法”的专利，公开号CN121250433A，申请日期为2025年10月。
专利摘要显示，本发明公开了一种退火诱导NO3-插层Ni基LDH@FeOHSO4析氧催化电极的制备方法，属于电催化水分解技术领域。本发明通过退火处理诱导NO3-插入Ni基层状双氢氧化物（LDH）与FeOHSO4复合结构中，调控电极材料的电子结构与表面性质，从而提升其在析氧反应中的催化活性与稳定性。该方法工艺简单，成本较低，为高效析氧催化电极的制备提供了新途径。
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